莱宝真空泵在真空镀膜和光学镀膜上有什么区别？

真空镀膜一种通过物理方法生产薄膜材料的技术。真空室中材料的原子与热源隔离，并撞击要镀覆的物体表面。这项技术*首先用于生产光学透镜，例如船用望远镜透镜。后来扩展到其他功能膜，例如记录铝电镀，装饰涂层和材料表面改性。例如，表壳镀有仿金，然后对机床进行了涂层处理以改变加工硬度。真空镀膜主要使用辉光放电在目标表面击中氩（Ar）离子。
靶的原子被喷射并沉积在基板表面上以形成薄膜。溅射膜的性质和均匀性优于蒸发膜，但是涂布速度比蒸发膜慢得多。几乎所有新型溅射设备都使用强大的磁体使电子螺旋旋转，以加速靶周围的氩离子化，这增加了靶与氩离子发生碰撞的可能性，并提高了溅射速率。通常，大多数金属涂层使用DC溅射，而非导电陶瓷磁性材料使用RFAC溅射。基本原理是在真空中使用辉光放电在目标表面上撞击氩（Ar）离子。随着待溅射的材料，等离子体中的阳离子将朝着负极表面加速。这种冲击将导致靶材飞出并沉积在基板上以形成薄膜。

一般而言，通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点：金属，合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体，可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间，并且容易获得高精度的膜厚。与其他工艺相比，有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上，并且由于溅射的粒子具有高能量，因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。同时，这种高能量使基板具有较低的温度。可以在温度下获得结晶膜。薄膜的初始成核密度很高，并且可以产生10nm以下的非常薄的连续膜。目标寿命长，可以长时间连续自动生产。通过机器的特殊设计，可以将目标制成各种形状，以实现更好的控制和高效生产。